केमिकल पालिसिङ र स्टेनलेस स्टीलको इलेक्ट्रोलाइटिक पालिसिङ बीचको भिन्नता

जे होस्, व्यावहारिक अनुप्रयोगहरूले स्टेनलेस स्टीलका विविध प्रकारका कारण चुनौतीहरू खडा गर्छन्।स्टेनलेस स्टीलका विभिन्न ग्रेडहरूले तिनीहरूको आफ्नै अद्वितीय जंग विकास ढाँचाहरू प्रदर्शन गर्दछ, यसले रासायनिक पालिशको लागि एकल समाधान प्रयोग गर्न अव्यावहारिक बनाउँछ।नतिजाको रूपमा, त्यहाँ स्टेनलेस स्टील रासायनिक पॉलिशिंग समाधानहरूको लागि धेरै डेटा प्रकारहरू छन्।

स्टेनलेस स्टील इलेक्ट्रोलाइटिक पॉलिशिंगएनोडमा स्टेनलेस स्टील उत्पादनहरू निलम्बन र इलेक्ट्रोलाइटिक पॉलिशिंग समाधानमा एनोडिक इलेक्ट्रोलाइसिसको अधीनमा समावेश गर्दछ।इलेक्ट्रोलाइटिक पॉलिशिंग एक अद्वितीय एनोडिक प्रक्रिया हो जहाँ स्टेनलेस स्टील उत्पादनको सतहले एकै साथ दुई विवादित प्रक्रियाहरू पार गर्दछ: धातु सतह अक्साइड फिल्मको निरन्तर गठन र विघटन।जे होस्, स्टेनलेस स्टील उत्पादनको उत्तल र अवतल सतहहरूमा बन्ने रासायनिक फिल्मलाई निष्क्रिय अवस्थामा प्रवेश गर्नका लागि सर्तहरू फरक छन्।एनोड क्षेत्रमा धातु लवणको एकाग्रता एनोडिक विघटनको कारणले लगातार बढ्छ, स्टेनलेस स्टील उत्पादनको सतहमा बाक्लो, उच्च-प्रतिरोधी फिल्म बनाउँछ।

उत्पादनको सूक्ष्म-उत्तल र अवतल सतहहरूमा बाक्लो फिल्मको मोटाई भिन्न हुन्छ, र एनोड माइक्रो-सतह प्रवाहको वितरण असमान हुन्छ।उच्च वर्तमान घनत्व भएका स्थानहरूमा, चिल्लोपन प्राप्त गर्न उत्पादनको सतहमा burrs वा माइक्रो-उत्तल ब्लकहरूको विघटनलाई प्राथमिकता दिँदै, विघटन द्रुत रूपमा हुन्छ।यसको विपरित, कम वर्तमान घनत्व भएका क्षेत्रहरूले ढिलो विघटन प्रदर्शन गर्दछ।विभिन्न वर्तमान घनत्व वितरणको कारण, उत्पादनको सतहले लगातार फिल्म बनाउँछ र विभिन्न दरहरूमा भंग गर्दछ।एकै साथ, एनोड सतहमा दुई विरोधी प्रक्रियाहरू हुन्छन्: फिल्म गठन र विघटन, साथै निरन्तर उत्पादन र निष्क्रियता फिल्मको विघटन।यसले स्टेनलेस स्टीलको सतह पालिश गर्ने र परिष्कृत गर्ने लक्ष्य हासिल गर्दै स्टेनलेस स्टील उत्पादनहरूको सतहमा चिल्लो र अत्यधिक पालिश गरिएको उपस्थितिको परिणाम दिन्छ।