1. ਪੈਸੀਵੇਸ਼ਨ ਲੇਅਰ ਦਾ ਗਠਨ, ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਵਿੱਚ ਸੁਧਾਰ:

ਸਟੇਨਲੈਸ ਸਟੀਲ ਦਾ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਕ੍ਰੋਮੀਅਮ ਆਕਸਾਈਡ (Cr2O3) ਵਾਲੀ ਇੱਕ ਪੈਸੀਵੇਸ਼ਨ ਪਰਤ ਦੇ ਗਠਨ 'ਤੇ ਅਧਾਰਤ ਹੈ।ਕਈ ਕਾਰਕ ਪੈਸੀਵੇਸ਼ਨ ਪਰਤ ਨੂੰ ਨੁਕਸਾਨ ਪਹੁੰਚਾ ਸਕਦੇ ਹਨ, ਜਿਸ ਵਿੱਚ ਸਤਹ ਦੀਆਂ ਅਸ਼ੁੱਧੀਆਂ, ਮਕੈਨੀਕਲ ਪ੍ਰੋਸੈਸਿੰਗ ਦੁਆਰਾ ਪ੍ਰੇਰਿਤ ਤਣਾਅ, ਅਤੇ ਹੀਟ ਟ੍ਰੀਟਮੈਂਟ ਜਾਂ ਵੈਲਡਿੰਗ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆਵਾਂ ਦੌਰਾਨ ਲੋਹੇ ਦੇ ਪੈਮਾਨੇ ਦਾ ਗਠਨ ਸ਼ਾਮਲ ਹੈ।ਇਸ ਤੋਂ ਇਲਾਵਾ, ਥਰਮਲ ਜਾਂ ਰਸਾਇਣਕ ਪ੍ਰਤੀਕ੍ਰਿਆਵਾਂ ਕਾਰਨ ਸਥਾਨਕ ਕ੍ਰੋਮੀਅਮ ਦੀ ਕਮੀ ਇੱਕ ਹੋਰ ਕਾਰਕ ਹੈ ਜੋ ਪੈਸੀਵੇਸ਼ਨ ਪਰਤ ਦੇ ਨੁਕਸਾਨ ਵਿੱਚ ਯੋਗਦਾਨ ਪਾਉਂਦੀ ਹੈ।ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਟਿਕ ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗਸਮੱਗਰੀ ਦੇ ਮੈਟਰਿਕਸ ਢਾਂਚੇ ਨੂੰ ਨੁਕਸਾਨ ਨਹੀਂ ਪਹੁੰਚਾਉਂਦਾ, ਅਸ਼ੁੱਧੀਆਂ ਅਤੇ ਸਥਾਨਕ ਨੁਕਸ ਤੋਂ ਮੁਕਤ ਹੈ।ਮਕੈਨੀਕਲ ਪ੍ਰੋਸੈਸਿੰਗ ਦੀ ਤੁਲਨਾ ਵਿੱਚ, ਇਸਦਾ ਨਤੀਜਾ ਕ੍ਰੋਮੀਅਮ ਅਤੇ ਨਿਕਲ ਦੀ ਕਮੀ ਨਹੀਂ ਹੁੰਦਾ;ਇਸਦੇ ਉਲਟ, ਇਹ ਲੋਹੇ ਦੀ ਘੁਲਣਸ਼ੀਲਤਾ ਦੇ ਕਾਰਨ ਕ੍ਰੋਮੀਅਮ ਅਤੇ ਨਿਕਲ ਦੇ ਮਾਮੂਲੀ ਸੰਸ਼ੋਧਨ ਦਾ ਕਾਰਨ ਬਣ ਸਕਦਾ ਹੈ।ਇਹ ਕਾਰਕ ਇੱਕ ਨਿਰਦੋਸ਼ ਪੈਸੀਵੇਸ਼ਨ ਪਰਤ ਦੇ ਗਠਨ ਦੀ ਨੀਂਹ ਰੱਖਦੇ ਹਨ।ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਟਿਕ ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ ਮੈਡੀਕਲ, ਰਸਾਇਣਕ, ਭੋਜਨ ਅਤੇ ਪ੍ਰਮਾਣੂ ਉਦਯੋਗਾਂ ਵਿੱਚ ਲਾਗੂ ਕੀਤੀ ਜਾਂਦੀ ਹੈ ਜਿੱਥੇ ਉੱਚ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਦੀ ਲੋੜ ਹੁੰਦੀ ਹੈ।ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਟਿਕ ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ ਤੋਂਇੱਕ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਹੈ ਜੋ ਮਾਈਕਰੋਸਕੋਪਿਕ ਸਤਹ ਦੀ ਨਿਰਵਿਘਨਤਾ ਨੂੰ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕਰਦੀ ਹੈ, ਇਹ ਵਰਕਪੀਸ ਦੀ ਦਿੱਖ ਨੂੰ ਵਧਾਉਂਦੀ ਹੈ.ਇਹ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਟਿਕ ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ ਨੂੰ ਮੈਡੀਕਲ ਖੇਤਰ ਵਿੱਚ ਐਪਲੀਕੇਸ਼ਨਾਂ ਲਈ ਢੁਕਵਾਂ ਬਣਾਉਂਦਾ ਹੈ, ਜਿਵੇਂ ਕਿ ਸਰਜਰੀਆਂ ਵਿੱਚ ਵਰਤੇ ਜਾਂਦੇ ਅੰਦਰੂਨੀ ਇਮਪਲਾਂਟ (ਜਿਵੇਂ ਕਿ, ਹੱਡੀਆਂ ਦੀਆਂ ਪਲੇਟਾਂ, ਪੇਚ), ਜਿੱਥੇ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਅਤੇ ਬਾਇਓ ਅਨੁਕੂਲਤਾ ਦੋਵੇਂ ਜ਼ਰੂਰੀ ਹਨ।