ਸਟੇਨਲੈਸ ਸਟੀਲ ਦੀ ਕੈਮੀਕਲ ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ ਅਤੇ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਟਿਕ ਪੋਲਿਸ਼ਿੰਗ ਵਿਚਕਾਰ ਅੰਤਰ

ਹਾਲਾਂਕਿ, ਸਟੇਨਲੈਸ ਸਟੀਲ ਦੀਆਂ ਵਿਭਿੰਨ ਕਿਸਮਾਂ ਦੇ ਕਾਰਨ ਵਿਹਾਰਕ ਐਪਲੀਕੇਸ਼ਨਾਂ ਚੁਣੌਤੀਆਂ ਪੈਦਾ ਕਰਦੀਆਂ ਹਨ।ਸਟੇਨਲੈਸ ਸਟੀਲ ਦੇ ਵੱਖ-ਵੱਖ ਗ੍ਰੇਡ ਆਪਣੇ ਵਿਲੱਖਣ ਖੋਰ ਵਿਕਾਸ ਪੈਟਰਨਾਂ ਨੂੰ ਪ੍ਰਦਰਸ਼ਿਤ ਕਰਦੇ ਹਨ, ਜਿਸ ਨਾਲ ਰਸਾਇਣਕ ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ ਲਈ ਇੱਕ ਸਿੰਗਲ ਹੱਲ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰਨਾ ਅਵਿਵਹਾਰਕ ਬਣ ਜਾਂਦਾ ਹੈ।ਨਤੀਜੇ ਵਜੋਂ, ਸਟੇਨਲੈੱਸ ਸਟੀਲ ਰਸਾਇਣਕ ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ ਹੱਲਾਂ ਲਈ ਕਈ ਡਾਟਾ ਕਿਸਮਾਂ ਹਨ।

ਸਟੀਲ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਟਿਕ ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗਐਨੋਡ 'ਤੇ ਸਟੇਨਲੈਸ ਸਟੀਲ ਉਤਪਾਦਾਂ ਨੂੰ ਮੁਅੱਤਲ ਕਰਨਾ ਅਤੇ ਉਹਨਾਂ ਨੂੰ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਟਿਕ ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ ਘੋਲ ਵਿੱਚ ਐਨੋਡਿਕ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਸਿਸ ਦੇ ਅਧੀਨ ਕਰਨਾ ਸ਼ਾਮਲ ਹੈ।ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਟਿਕ ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ ਇੱਕ ਵਿਲੱਖਣ ਐਨੋਡਿਕ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਹੈ ਜਿੱਥੇ ਸਟੀਲ ਉਤਪਾਦ ਦੀ ਸਤ੍ਹਾ ਇੱਕੋ ਸਮੇਂ ਦੋ ਵਿਰੋਧੀ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆਵਾਂ ਵਿੱਚੋਂ ਗੁਜ਼ਰਦੀ ਹੈ: ਧਾਤ ਦੀ ਸਤਹ ਆਕਸਾਈਡ ਫਿਲਮ ਦਾ ਨਿਰੰਤਰ ਗਠਨ ਅਤੇ ਭੰਗ।ਹਾਲਾਂਕਿ, ਸਟੇਨਲੈੱਸ ਸਟੀਲ ਉਤਪਾਦ ਦੀ ਉਤਪੱਤੀ ਅਤੇ ਅਵਤਲ ਸਤਹਾਂ 'ਤੇ ਬਣੀਆਂ ਰਸਾਇਣਕ ਫਿਲਮ ਦੀਆਂ ਸਥਿਤੀਆਂ ਵੱਖ-ਵੱਖ ਹੁੰਦੀਆਂ ਹਨ।ਐਨੋਡ ਖੇਤਰ ਵਿੱਚ ਧਾਤ ਦੇ ਲੂਣ ਦੀ ਗਾੜ੍ਹਾਪਣ ਐਨੋਡਿਕ ਭੰਗ ਦੇ ਕਾਰਨ ਲਗਾਤਾਰ ਵਧਦੀ ਜਾਂਦੀ ਹੈ, ਸਟੀਲ ਉਤਪਾਦ ਦੀ ਸਤਹ 'ਤੇ ਇੱਕ ਮੋਟੀ, ਉੱਚ-ਰੋਧਕ ਫਿਲਮ ਬਣਾਉਂਦੀ ਹੈ।

ਉਤਪਾਦ ਦੀਆਂ ਸੂਖਮ-ਉੱਤਲ ਅਤੇ ਅਵਤਲ ਸਤਹਾਂ 'ਤੇ ਮੋਟੀ ਫਿਲਮ ਦੀ ਮੋਟਾਈ ਵੱਖੋ-ਵੱਖਰੀ ਹੁੰਦੀ ਹੈ, ਅਤੇ ਐਨੋਡ ਮਾਈਕ੍ਰੋ-ਸਰਫੇਸ ਕਰੰਟ ਦੀ ਵੰਡ ਅਸਮਾਨ ਹੁੰਦੀ ਹੈ।ਉੱਚ ਮੌਜੂਦਾ ਘਣਤਾ ਵਾਲੇ ਸਥਾਨਾਂ 'ਤੇ, ਨਿਰਵਿਘਨਤਾ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕਰਨ ਲਈ ਉਤਪਾਦ ਦੀ ਸਤ੍ਹਾ 'ਤੇ ਬਰਰ ਜਾਂ ਮਾਈਕ੍ਰੋ-ਕਨਵੈਕਸ ਬਲਾਕਾਂ ਦੇ ਭੰਗ ਨੂੰ ਤਰਜੀਹ ਦਿੰਦੇ ਹੋਏ, ਭੰਗ ਤੇਜ਼ੀ ਨਾਲ ਵਾਪਰਦਾ ਹੈ।ਇਸਦੇ ਉਲਟ, ਘੱਟ ਮੌਜੂਦਾ ਘਣਤਾ ਵਾਲੇ ਖੇਤਰ ਹੌਲੀ ਹੌਲੀ ਭੰਗ ਪ੍ਰਦਰਸ਼ਿਤ ਕਰਦੇ ਹਨ।ਵੱਖ-ਵੱਖ ਮੌਜੂਦਾ ਘਣਤਾ ਵੰਡਾਂ ਦੇ ਕਾਰਨ, ਉਤਪਾਦ ਦੀ ਸਤਹ ਲਗਾਤਾਰ ਇੱਕ ਫਿਲਮ ਬਣਾਉਂਦੀ ਹੈ ਅਤੇ ਵੱਖ-ਵੱਖ ਦਰਾਂ 'ਤੇ ਘੁਲ ਜਾਂਦੀ ਹੈ।ਇਸਦੇ ਨਾਲ ਹੀ, ਐਨੋਡ ਸਤਹ 'ਤੇ ਦੋ ਵਿਰੋਧੀ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆਵਾਂ ਵਾਪਰਦੀਆਂ ਹਨ: ਫਿਲਮ ਦਾ ਗਠਨ ਅਤੇ ਭੰਗ, ਨਾਲ ਹੀ ਪੈਸੀਵੇਸ਼ਨ ਫਿਲਮ ਦੀ ਨਿਰੰਤਰ ਪੀੜ੍ਹੀ ਅਤੇ ਭੰਗ।ਇਸ ਦੇ ਨਤੀਜੇ ਵਜੋਂ ਸਟੇਨਲੈਸ ਸਟੀਲ ਉਤਪਾਦਾਂ ਦੀ ਸਤ੍ਹਾ 'ਤੇ ਇੱਕ ਨਿਰਵਿਘਨ ਅਤੇ ਬਹੁਤ ਜ਼ਿਆਦਾ ਪਾਲਿਸ਼ ਕੀਤੀ ਦਿੱਖ ਮਿਲਦੀ ਹੈ, ਸਟੀਲ ਦੀ ਸਤਹ ਦੀ ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ ਅਤੇ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਦੇ ਟੀਚੇ ਨੂੰ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕਰਦੇ ਹੋਏ।