ਐਸਿਡ ਪਿਕਲਿੰਗ ਅਤੇ ਸਟੀਲ ਦੇ ਟੈਂਕਾਂ ਦੇ ਪੈਸੀਵੇਸ਼ਨ ਦਾ ਕਾਰਨ

ਸਟੇਨਲੈੱਸ ਸਟੀਲ ਦੇ ਟੈਂਕ, ਕਈ ਤਰ੍ਹਾਂ ਦੇ ਰਸਾਇਣਾਂ ਨੂੰ ਲੈ ਕੇ ਜਾਣ ਕਾਰਨ, ਕਾਰਗੋ ਗੰਦਗੀ ਨੂੰ ਰੋਕਣ ਲਈ ਉੱਚ ਲੋੜਾਂ ਹਨ।ਕਿਉਂਕਿ ਘਰੇਲੂ ਤੌਰ 'ਤੇ ਤਿਆਰ ਸਟੇਨਲੈਸ ਸਟੀਲ ਪਲੇਟਾਂ ਦੀ ਸਤਹ ਦੀ ਗੁਣਵੱਤਾ ਮੁਕਾਬਲਤਨ ਮਾੜੀ ਹੁੰਦੀ ਹੈ, ਇਹ ਮਕੈਨੀਕਲ, ਰਸਾਇਣਕ, ਜਾਂਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਟਿਕ ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗਸਟੇਨਲੈੱਸ ਸਟੀਲ ਦੇ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਨੂੰ ਵਧਾਉਣ ਲਈ ਸਫਾਈ ਕਰਨ, ਅਚਾਰ ਬਣਾਉਣ ਅਤੇ ਪੈਸੀਵੇਟ ਕਰਨ ਤੋਂ ਪਹਿਲਾਂ ਸਟੇਨਲੈੱਸ ਸਟੀਲ ਪਲੇਟਾਂ, ਉਪਕਰਣਾਂ ਅਤੇ ਸਹਾਇਕ ਉਪਕਰਣਾਂ 'ਤੇ।

ਸਟੇਨਲੈਸ ਸਟੀਲ 'ਤੇ ਪੈਸੀਵੇਸ਼ਨ ਫਿਲਮ ਵਿੱਚ ਗਤੀਸ਼ੀਲ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ ਹੁੰਦੀਆਂ ਹਨ ਅਤੇ ਇਸਨੂੰ ਖੋਰ ਨੂੰ ਪੂਰਨ ਰੋਕ ਨਹੀਂ ਮੰਨਿਆ ਜਾਣਾ ਚਾਹੀਦਾ ਹੈ, ਸਗੋਂ ਇੱਕ ਫੈਲਣ ਵਾਲੀ ਸੁਰੱਖਿਆ ਪਰਤ ਦਾ ਗਠਨ ਮੰਨਿਆ ਜਾਣਾ ਚਾਹੀਦਾ ਹੈ।ਇਹ ਘਟਾਉਣ ਵਾਲੇ ਏਜੰਟਾਂ (ਜਿਵੇਂ ਕਿ ਕਲੋਰਾਈਡ ਆਇਨਾਂ) ਦੀ ਮੌਜੂਦਗੀ ਵਿੱਚ ਖਰਾਬ ਹੋ ਜਾਂਦਾ ਹੈ ਅਤੇ ਆਕਸੀਡੈਂਟਾਂ (ਜਿਵੇਂ ਕਿ ਹਵਾ) ਦੀ ਮੌਜੂਦਗੀ ਵਿੱਚ ਸੁਰੱਖਿਆ ਅਤੇ ਮੁਰੰਮਤ ਕਰ ਸਕਦਾ ਹੈ।

ਜਦੋਂ ਸਟੇਨਲੈਸ ਸਟੀਲ ਹਵਾ ਦੇ ਸੰਪਰਕ ਵਿੱਚ ਆਉਂਦਾ ਹੈ, ਇੱਕ ਆਕਸਾਈਡ ਫਿਲਮ ਬਣਦੀ ਹੈ।

ਹਾਲਾਂਕਿ, ਇਸ ਫਿਲਮ ਦੀਆਂ ਸੁਰੱਖਿਆ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ ਕਾਫ਼ੀ ਨਹੀਂ ਹਨ.ਐਸਿਡ ਪਿਕਲਿੰਗ ਦੁਆਰਾ, 10μm ਦੀ ਔਸਤ ਮੋਟਾਈਸਟੀਲ ਸਤਹਖੰਡਿਤ ਹੈ, ਅਤੇ ਐਸਿਡ ਦੀ ਰਸਾਇਣਕ ਗਤੀਵਿਧੀ ਨੁਕਸ ਵਾਲੀਆਂ ਥਾਵਾਂ 'ਤੇ ਘੁਲਣ ਦੀ ਦਰ ਨੂੰ ਹੋਰ ਸਤਹ ਖੇਤਰਾਂ ਨਾਲੋਂ ਵੱਧ ਬਣਾਉਂਦੀ ਹੈ।ਇਸ ਤਰ੍ਹਾਂ, ਪਿਕਲਿੰਗ ਪੂਰੀ ਸਤ੍ਹਾ ਨੂੰ ਇੱਕ ਸਮਾਨ ਸੰਤੁਲਨ ਬਣਾ ਦਿੰਦੀ ਹੈ।ਮਹੱਤਵਪੂਰਨ ਤੌਰ 'ਤੇ, ਪਿਕਲਿੰਗ ਅਤੇ ਪੈਸੀਵੇਸ਼ਨ ਦੁਆਰਾ, ਕ੍ਰੋਮੀਅਮ ਅਤੇ ਇਸਦੇ ਆਕਸਾਈਡਾਂ ਦੇ ਮੁਕਾਬਲੇ ਆਇਰਨ ਅਤੇ ਇਸਦੇ ਆਕਸਾਈਡ ਤਰਜੀਹੀ ਤੌਰ 'ਤੇ ਘੁਲ ਜਾਂਦੇ ਹਨ, ਕ੍ਰੋਮੀਅਮ-ਖਰੀ ਹੋਈ ਪਰਤ ਨੂੰ ਹਟਾਉਂਦੇ ਹਨ ਅਤੇ ਸਤਹ ਨੂੰ ਕ੍ਰੋਮੀਅਮ ਨਾਲ ਭਰਪੂਰ ਕਰਦੇ ਹਨ।ਆਕਸੀਡੈਂਟਾਂ ਦੀ ਪੈਸੀਵੇਟਿੰਗ ਐਕਸ਼ਨ ਦੇ ਤਹਿਤ, ਇੱਕ ਸੰਪੂਰਨ ਅਤੇ ਸਥਿਰ ਪੈਸੀਵੇਸ਼ਨ ਫਿਲਮ ਬਣਦੀ ਹੈ, ਜਿਸ ਵਿੱਚ ਕ੍ਰੋਮੀਅਮ-ਅਮੀਰ ਪੈਸੀਵੇਸ਼ਨ ਫਿਲਮ ਦੀ ਸੰਭਾਵੀ +1.0V (SCE) ਤੱਕ ਪਹੁੰਚਦੀ ਹੈ, ਨੇਕ ਧਾਤਾਂ ਦੀ ਸਮਰੱਥਾ ਦੇ ਨੇੜੇ, ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਸਥਿਰਤਾ ਨੂੰ ਵਧਾਉਂਦੀ ਹੈ।